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藝術玻璃是用鋼化玻璃加工的嗎 藝術玻璃主要工藝有哪幾類

2018-08-07 來源:中國玻璃網(wǎng)

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        玻璃是一種古老的建筑材料,早在古埃及時期就已出現(xiàn)。伴隨著人類社會共同發(fā)展,玻璃行業(yè)創(chuàng)造出了各種功能獨特的玻璃,使玻璃家族不斷興旺。我們將介紹藝術玻璃的主要工藝有哪幾類,并說明藝術玻璃是如何制作的。

一、藝術玻璃是用鋼化玻璃加工的嗎



        藝術玻璃是以彩色藝術玻璃為載體,具體地說藝術玻璃是人們現(xiàn)實生活中對精力世界的一種形象反映,同時也是藝術家們知覺、情感、理想、意念等綜合心理活動的農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系產(chǎn)物.加上一些工藝美術手法使現(xiàn)實、情感和理想得到再現(xiàn),再結合想象力實現(xiàn)審美主體和審美客體的相互對象化的一種物品.廣義的藝術玻璃覆蓋了所有以玻璃材質(zhì)為載體,體現(xiàn)設計概念和表達藝術效果的玻璃制品,包括藝術作品、工藝品和裝飾品等等,而狹義的藝術玻璃則僅僅指的是藝術作品.

        通常而言藝術玻璃是先進行藝術加工后再做鋼化的,目的是為了避免因施加外力導致鋼化玻璃因應力不均而炸裂.

二、藝術玻璃主要工藝有哪幾類


        1. 藝術玻璃冷加工類

        1.1 鑲嵌玻璃(傳統(tǒng)鑲嵌,英式鑲嵌,金屬焊接鑲嵌);

        1.2 化學蝕刻(圖案蒙砂,絲印圖案蒙砂,圖案凹蒙,冰花);

        1.3 工具雕刻(各式砂輪,砂條雕刻,晶鋼刻刀,機械車花);

        1.4 噴砂雕刻(手工刻膠紙掩模,機刻膠紙掩模,光刻掩模,漆料肌理掩模);

        1.5 激光雕刻(電腦控制激光雕刻);

        1.6 切割造型(刀切割,水切割);

        1.7 粘貼造型(平面粘貼,空間粘貼,彩色玻璃或膠膜的粘貼,彩色珠/砂/條/件的粘貼,多層疊粘,貼金);

        1.8 玻璃立塑(立線堆塑,立線漆浮雕造形);

        1.9 彩繪(噴槍彩繪,畫筆彩繪,絲印彩圖,聚晶);

        1.10 夾層(En膜夾層:花布,花紙,彩色膠膜,金屬絲網(wǎng)等);

        2. 藝術玻璃熱加工類

        2.1 吹制Blown(用管子蘸玻璃液珠后吹制:人工鋼模/機制鋼模吹制,人工自由造形:吹拉滾摔粘切)

        2.2 鑄造Cast(把玻璃液壓注或流入模中成形:如鋼模壓鑄玻璃磚,手工澆鑄彩色玻磚,平面澆鑄藝術玻璃,失蠟精鑄/琉璃工坊);

        2.3 壓制Pressing(把玻璃液引出,用軋錕壓花或壓彩色肌理和底紋的玻板:如機制壓花藝術玻璃,手工壓花藝術玻璃,機制玻璃瑪賽克等);

        2.4 燒結(把玻璃粉等在模中高溫燒結成形:如泡沫玻璃或微晶玻璃等的模燒工藝品); 

        2.5 熔凝Fusing(把玻璃全熔凝至玻液,并在其表面張力下凝聚:如熔凝的玻珠,玻璃手飾和玻璃工藝品等);

        2.6 彩釉 Enamel(使用高溫彩釉在玻璃表面上色或彩繪:如彩釉色玻,彩釉彩繪);

        2.7 疊燒(把疊層玻璃燒粘黏成一體:如疊熔,疊燒,夾絲/件);

三、有關概念

3.1 玻璃

        玻璃是非晶無機非金屬材料,一般是用多種無機礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料,另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等,主要成分是硅酸鹽復鹽,是一種無規(guī)則結構的非晶態(tài)固體。廣泛應用于建筑物,用來隔風透光,屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃,和通過物理或者化學的方法制得的鋼化玻璃等。有時把一些透明的塑料(如聚甲基丙烯酸甲酯)也稱作農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。

3.2 粘貼

        “粘貼”一詞的正確讀音是“zhān tiē ”(1) [用黏性的東西使紙張等附著在別的東西上(2) ;濕的東西貼在別的物體上。粘貼:網(wǎng)絡術語,指將一個文本或一段文字復制或剪切后移動到另一個位置或另一個文本中。

3.3 掩模

        掩模版(mask)簡稱掩模,是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計圖形,光線透過它,把設計圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機中,掩模作為一個光學元件位于會聚透鏡(condenser lens)與投影透鏡(projection lens)之間,它并不和晶圓有直接接觸。掩模上的圖形縮小4~10倍(現(xiàn)代光刻機一般都是縮小4倍)后透射在晶圓表面。為了區(qū)別接觸式曝光中使用的掩模,投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模(reticle)。


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