湘潭宏鋒機械真空磁控濺射蒸發(fā)玻璃鍍膜機   磁控濺射鍍膜機主要是使用直流（或中頻）磁控濺射，可適應(yīng)廣泛鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料，可以利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻度等特點。 特點及基本參數(shù) ●臥式線體結(jié)構(gòu)，可實現(xiàn)單面同時鍍膜 ●生產(chǎn)效率,速度可達1分鐘/節(jié)拍 ●模組化設(shè)計,維護方便 ●鍍膜工藝成熟,成品率高 ●直流磁控濺射陰極可隨客戶要求選擇 ●真空系統(tǒng)由機械泵、羅茨泵、擴散泵(分子泵)組成 ●線體尺寸可隨客戶要求定做   1) 真空室體材料采用 SUS304 ，真空室內(nèi)壁進行拋光處理，外壁采用拋光后噴珠處理。2) 真空室之間采用門閥—插板閥隔開，可以實現(xiàn)有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。目前我們公司采用插板閥設(shè)計，它比目前國內(nèi)通用的翻板閥密封效果更好，更耐用。3) 傳動采用磁導(dǎo)向，保障傳動的穩(wěn)定性。整條生產(chǎn)線的各段速度采用變頻調(diào)速電機驅(qū)動，運行速度可調(diào)節(jié)。4) 電氣控制系統(tǒng)：觸摸屏與 P L C 自動控制，人機對話方式來實現(xiàn)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)顯示、操作與控制技術(shù)參數(shù)1) 極限真空壓力：6× 1 0E-4 Pa2) 平均生產(chǎn)周期：根據(jù)產(chǎn)品確定3) 基片架尺寸：可以根據(jù)要求定做4) 膜層均勻性: ± 3％先進的移動磁場技術(shù)大大提高了靶材利用率分段式加熱設(shè)計，有利于工藝優(yōu)化。