<div class="ncpzs_title"><a name="cpxh"></a>產品型號</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p><strong><span style="FONT-SIZE: x-small"><span style="FONT-FAMILY: Arial">HD-JCL-Z1400A</span></span></strong></p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="cpjs"></a>產品介紹</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>AZO膜生產線共設計有七個真空腔體部分，靠前部分為進口室，第二部分為進口緩沖室，第三部分為進口傳送室，第四部分為工藝室，第五部分為出口傳送室，第六部分為出口緩沖室，第七部分為出口室；兩對采用PCU04閉路環(huán)控制的中頻孿生Si靶，形成高質量的隔離SiO2層；十對圓柱AZO靶，實現高質量的AZO透明導線膜；設備設計加工尺寸為寬1100mm，長1400mm的平面基板材料，生產加工周期可優(yōu)化到100－180秒；生產線采用分子泵抽氣形成氣氛隔離的先進設計，生產線采用渦輪浮分子泵以獲得的隔離、穩(wěn)定的抽速和均勻的氣體分布。</p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="sctd"></a>生產線技術特點</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>（1）設備類型：臥式連續(xù)磁控濺射鍍膜線<br />（2）鍍膜基片架尺寸：按照1×1100mm（W）× 1400mm(L)×3mm基片設計；<br />（4）膜層均勻性設計要求：在有效沉積區(qū)域內，膜層厚度均勻性≤±5％；<br />（6）陰極結構設計要求：采用中頻孿生旋轉陰極，初步確定靶規(guī)格為135mm×1400mm；<br />（7）設備傳動方式：采用雙摩擦傳動的臥式小車裝載進片方式（不采用滾輪設計）；<br />（8）鍍膜工藝實現方式：采用ZnO：Al陶瓷靶，采用反應濺射沉積工藝；<br />（9）鍍膜溫度控制：采用不銹鋼鎧裝加熱裝置（可以按客戶要求采用燈管加熱），較高溫度為350℃，按照常溫～400℃可以任意設定設計，控制穩(wěn)定度為±5℃；<br />（10）控制系統要求：控制系統能實現人、機對話，及時對生產過程進行必要干預。運行過程有報警提示和故障顯示，故障顯示能提示操作人員正確的操作和排故。</p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="jscs"></a>技術參數</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>1）極限真空壓力：6× 1 0E-4 Pa<br />2）平均生產周期：80－180 秒／架<br />3）基片架尺寸：1100 mm× 1400mm（可以根據要求定做）<br />4）膜層均勻性：±5%</p> </div> <div class="ncpzs_title"><a name="cgal"></a>成功案例</div> <div style="margin-top: 20px; float: left; width: 100%;"> <p>中國建筑材料集團</p> </div>