我司主要通過氧氣充足燒結方法、熱等靜壓方法、真空熔煉等方法成型，其中氧氣充足燒結方法在國內處於領先技術，根據客戶的具體要求加工各種材質，各種規(guī)格的鍍膜材料，並為客戶提供技術上的服務與支援。本公司生產的真空濺射靶材及光學鍍膜材料主要應用於：半導體晶片、裝飾和功能鍍膜工業(yè)、太陽能電池板、據儲存工業(yè)（光碟工業(yè)）、平板液晶顯示器（LCD）、光通訊工業(yè)、玻璃鍍膜（建築玻璃和汽車玻璃）工業(yè)、抗腐蝕抗磨損（表面改性）等行業(yè)，品質達到國際較早進水準，填補了我國靶材在中、高端製造領域應用的空白。氧化鋅（ZnO），氧化鋅鋁（AZO），IZO（In2O3+ZnO），IGZO（In2O3+Ga2O3+ZnO），GZO（Ga2O3+ZnO），ITO（In2O3+SnO2），氧化鈮（NbOx），氧化鋁（Al2O3），，氧化鎂（MgO），氧化硅（SiO），氧化鎳（NiO），氧化鉻（Cr2O3），氧化釔（Y2O3），氧化鑭（La2O3），氧化鈰（CeO2），氧化鉍（Bi2O3），氧化鐵（Fe2O3），二氧化硅（SiO2），二氧化鈦（TiO2），二氧化錫（SnO2），二氧化鋯（ZrO2），二氧化鉿（HfO2），二硼化鎂（MgB2），二硼化鋯（ZrB2），二硼化鈦（TiB2）。硫化鎢（WS2），硫化鉬（MoS），硫化鎘（CdS），硫化鋅（ZnS），碳化硅（SiC），碳化硼（B4C），碳化鈦（TiC），碳化鎢（WC），氮化硅（SiN），氮化硼（BN），氮化鋁（AlN），氮化鈦（Ti3N4），硒化鋅（ZnSe），硒化銦（In2Se3），硒化銅（Cu2Se），氟化鎂（MgF-2），氟化鈉（NaF），氟化鑭（LaF3），鈦酸鐠（PrTiO3），鈦酸鍶（SrTiO3），鈦酸鋇（BaTiO3），鋯鈦酸鉛（PbZrTiO3）。是一家表面改性技術與真空鍍膜材料研發(fā)的企業(yè):以表面技術、鍍膜材料和新能源開發(fā)為其研究領域，產品廣泛服務于各個高校及高新技術領域的企業(yè)，公司通過多年來應用研究及新產品開發(fā)，已形成了自己獨立知識產權的技術和系列產品，同時公司還擁有一支高素質的研發(fā)、生產、管理和銷售隊伍，與國內外多所院校、研究所、企業(yè)有合作關系。公司現主要從事表面改性、鍍膜材料及高技術產品研發(fā)。